一氟甲烷（HFC-41, CH3F）在半導體工業(yè)中可作為氮化膜的刻蝕氣體，用于3D NAND閃存芯片的制造過(guò)程。北京宇極科技發(fā)展有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“北京宇極科技”）經(jīng)潛心研發(fā)，成功量產(chǎn)了電子刻蝕氣一氟甲烷，打破國內單一廠(chǎng)商在該產(chǎn)品上的業(yè)務(wù)格局。作為含氟化工品生產(chǎn)企業(yè)，北京宇極科技擁有獨立自主知識產(chǎn)權HFC-41的生產(chǎn)及提純工藝技術(shù)，可產(chǎn)出4N級高純產(chǎn)品，亦可能根據不同客戶(hù)的要求，對雜質(zhì)組分進(jìn)行有針對性的定向去除。

一氟甲烷，也稱(chēng)為氟甲烷、甲基氟、氟利昂41、HFC-41、R 41。英文名稱(chēng)methyl fluoride、fluoromethane，ODP為0，GWP為97。CAS號593-53-3，UN號2454，分子式CH3F。常溫常壓下是無(wú)毒、可液化的可燃氣體，化學(xué)穩定性好。

HFC-41（一氟甲烷）的物化數據

R41（一氟甲烷）的應用

高純HFC-41是一種綠色、高效的電子特氣，用于半導體及電子產(chǎn)品的刻蝕，對硅化物薄膜的刻蝕選擇性好，在射頻場(chǎng)下一氟甲烷HFC-41會(huì )溶解氟離子，進(jìn)行反應性離子蝕刻。在已申請的應用專(zhuān)利中，涉及HFC-41使用的主要半導體制造商有美國應用材料、英特爾、臺灣聯(lián)華電子、東京威力科創(chuàng )、富士通株式會(huì )社、中芯國際集成電路制造、臺灣積體電路制造、三星等。另外，已申請刻蝕應用專(zhuān)利的HFC-41生產(chǎn)廠(chǎng)商有大金株式會(huì )社、中央硝子、杜邦、巨化等國內外大型氟化工企業(yè)。

HFC-41在有機合成和藥物合成中，可作為有機分子的選擇性氟甲基化試劑。同時(shí)，HFC-41也被用作重要農藥中間體氟溴甲烷的生產(chǎn)原料。

產(chǎn)品規格

包裝信息

運輸信息

DOT Name: Methyl Fluoride

DOT Hazard Class: 2.1

UN No.: UN 2454

DOT Label: Flammable Gas

CAS NO.: 593-53-3